Phenom ProX G7 是飛納推出的臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)，可用于粉末顆粒形貌與成分分析，幫助觀察顆粒形貌并輔助判斷顆粒成分。
Phenom ProX G7 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 350,000 X，分辨率優(yōu)于 6 nm，采用 CeB6 燈絲，并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區(qū)元素分析和材料研發(fā)檢測(cè)。
該產(chǎn)品適合高校實(shí)驗(yàn)室、企業(yè)研發(fā)中心、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)及工業(yè)質(zhì)檢場(chǎng)景。具體配置和價(jià)格根據(jù)樣品類(lèi)型、探測(cè)器配置、能譜分析需求及服務(wù)方案確定，可通過(guò)平臺(tái)詢(xún)價(jià)/留言入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1. 臺(tái)式掃描電鏡與能譜分析能力結(jié)合。
2. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 350,000 X。
3. 分辨率優(yōu)于 6 nm，適合常規(guī)材料微觀形貌觀察。
4. CeB6 燈絲壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)。
5. 支持高/低真空模式。
6. 標(biāo)配背散射探測(cè)器和能譜探測(cè)器，可選配二次電子探測(cè)器。
7. 適合顆粒、異物、缺陷區(qū)域和材料微區(qū)成分分析。
8. 支持選型咨詢(xún)，可預(yù)約試樣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
可用于粉末顆粒形貌與成分分析、粉體材料研發(fā)、顆粒污染物分析、工業(yè)質(zhì)控和第三方檢測(cè)。
技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號(hào)：Phenom ProX G7
產(chǎn)品全稱(chēng)：ProX 電鏡能譜一體機(jī)
產(chǎn)品類(lèi)型：臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)
光學(xué)放大：27 - 160 X
電子光學(xué)放大：350,000 X
分辨率：優(yōu)于 6 nm
電子槍?zhuān)?/span>CeB6 燈絲，使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)
光學(xué)導(dǎo)航相機(jī)：彩色
加速電壓：基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
高級(jí)模式：4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)
真空模式：高 / 低真空
探測(cè)器：背散射探測(cè)器、能譜探測(cè)器
可選探測(cè)器：二次電子探測(cè)器
常見(jiàn)問(wèn)題：
1. 這款設(shè)備適合做什么分析？適合材料形貌觀察、微區(qū)元素分析、顆粒異物分析、失效分析和研發(fā)質(zhì)檢。
2. 是否可以做元素分析？可以。該產(chǎn)品為電鏡能譜一體機(jī)，可用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。
3. 價(jià)格是多少？?jī)r(jià)格根據(jù)配置、探測(cè)器選項(xiàng)和應(yīng)用需求確定，可通過(guò)平臺(tái)詢(xún)價(jià)入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。
如需了解 Phenom ProX G7 在粉末顆粒分析中的配置方案、應(yīng)用資料或報(bào)價(jià)信息，可通過(guò)平臺(tái)詢(xún)價(jià)/留言入口提交樣品類(lèi)型與測(cè)試需求，獲取選型建議，并預(yù)約試樣。
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