高真空磁控濺射鍍膜機圖片

1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。2、產(chǎn)品特點/用途：?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體