ZEISS EVO18鎢燈絲掃描電鏡

ZEISS商業化電鏡的歷史和經驗已超過60年，其技術、，在失效分析以及各種分析研究中具有廣泛的應用。
ZEISS不斷追求、推出新的技術和新的產品，使其成為不僅可拍攝高分辨率圖像，還可以完成各種各樣的分析研究，更加體現ZEISS電子顯微鏡高價值 和高利用性。
 1.  悠久的電子顯微鏡研究及生產歷史
ZEISS公司具有悠久的電鏡研究、生產歷史，在世界上一直處于地位。
當今的ZEISS公司納米技術系統分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德國本部電鏡生產基地和英國劍橋廠及其他配件廠組成。積掃描電鏡領域及透射電鏡領域多年的研發經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個：
臺靜電式 TEM (1949)
臺商用 SEM (1965)
臺全數字 SEM (1985)
臺帶有成像濾波器的 TEM (1992)
臺可變壓力 FE-SEM (2001)
臺具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)
臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的EFTEM (2003)

   
 ZEISS電鏡技術經歷了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等發展階段，現已具有鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等生產能力的廠家。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到廣大用戶的信賴與認可。
2.  的儀器結構設計
ZEISS掃描電鏡采用通用的鏡體設計，可配備各種不同的附件，適應各種分析的需要。并具有靈活的可升級性，可按照用戶研究工作發展的需要進行升級。各種類型的掃描電鏡均有高真空、低真空（或超低真空）型號，以滿足不同樣品檢測的需要。
3.  的技術性能
高分辨率 ： 目前，鎢燈絲掃描電鏡的分辨率達到3nm，能夠滿足失效分析、材料研究等方面的需要。

 


大樣品室：  ZEISS掃描電鏡具有世界上的樣品室，樣品室內部尺寸為Φ365mm×275mm，全對中的樣品臺，可放置的樣品尺寸為Φ250mm×145mm，樣品臺承載重量為5kg，方便各種大樣品的分析。
高效無污染真空系統： ZEISS各種型號的掃描電鏡均采用了渦輪分子泵抽真空，其抽真空速度快、無污染、免維護是其的優勢。還可提供無油的真空系統。
自動化操作： 新型的掃描電鏡全部采用當前的計算機集成自動化控制，采用Windows視窗操作系統、圖形用戶控制界面，全部操作可用鍵盤和鼠標完成。樣品臺坐標軸全部馬達驅動，軟件功能*，操作非常簡單和方便。
五軸馬達自動控制全對中樣品臺：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。
高穩定性、可靠性： ZEISS掃描電鏡具有很高的穩定性，鏡筒、電路板等均采用了水冷，保證了其工作的穩定與可靠。做工的，工藝的考究，也為世界。
4.  全面的成像解決方案
ZEISS的鎢燈絲掃描電鏡可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，對任何材料都沒有局限性，滿足金屬、陶瓷、地礦、化工、半導體、生命科學等所有研究領域需要。其超大樣品室預留足夠端口，可搭配能譜、波譜、背散射電子衍射、陰極熒光等，樣品臺可裝加熱臺、冷卻臺和拉伸臺以滿足各種研究需要。其大束流和優異的束流穩定度支持各種大束流和長時間的分析。
掃描電鏡的*功能已使其成為研究所以及工廠的微觀失效分析的一個基本工具，為失效分析提供真實確切的證據，提高相應領域的分析水平。廣泛應用于航空航天、交通、材料、冶金、地礦、半導體、生命科學等方面。
5.  低真空的應用
在失效分析中，除了金屬樣品外，還有很多非金屬樣品，這些樣品導電性很差。要分析這些非導電樣品，樣品的充電是不可避免的。由于電子束打到樣品上使樣品帶電，其產生的電場影響了二次電子的產生和接收，使圖像上呈現一片片亮的或暗的區域，無法進行正常觀察。要對這些非導電樣品進行分析，就必須排除樣品充電的影響。其方法就是將樣品上的電荷中和掉。ZEISS掃描電鏡所采取的措施是：使樣品室處于低真空狀態，樣品表面所產生的二次電子與樣品室中的氣體分子相碰撞，使氣體電離，這些氣體離子附著于樣品表面，將樣品上所帶的電荷中和掉。使用專用的探測器，接收二次電子與氣體分子相碰撞時產生的光子，這些光子也就代表了二次電子信號，使成像不受樣品導電性的影響，在分析這些樣品時能夠得到理想的成像。
對于一些含水、含油的樣品，可以采用更低的真空度，使水分在該壓力、溫度下不至于揮發，這樣便可觀察到真實的生物樣品形貌。
6. 具有多種觀察模式，
分辨率模式、景深模式、分析模式、視場模式、魚眼模式。

注：該儀器未取得中華人民共和國注冊證，不可用于臨床診斷或治療等相關用途