簡 介: 原位高溫衍射反應裝置(HT-XRD-1000)是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺,該裝置主要包含有主體反應腔(高溫爐體)、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用環境場加熱方式,確保樣品處于恒溫點,使用溫度1000℃,常用使用溫度范圍:RT-800℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究,是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。 主要特點: 1. 本設備系統主要由主體腔室(反應腔)、冷卻循環系統、氣路系統和溫度控制系統(帶程序控制)四個主體部分組成。 2. Ø 該裝置采用環場加熱方式對樣品中心處進行加熱,保證樣品處的溫度均勻; 3. Ø 溫度控制范圍:使用溫度1000℃,常用溫度RT-800℃,溫度控制精度:±1℃; 4. Ø樣品臺采用陶瓷加工而成,熱電偶采用k 型鎧裝熱電偶,置于樣品正下方; 5. Ø 裝置采用kapton 膜作為X 射線光窗,能夠承受不高于2 個大氣壓的氣壓條件和低真空環境; 6. Ø X 射線采集角度為:5<2θ<160°; 7. 配備水冷系統,保證主體反應腔室的溫度不高于60℃,保證實驗的安全;


















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