半導體晶圓制造環節大量使用高純氮氣作為吹掃、保護用氣,氮氣吹掃管路貫穿刻蝕、光刻、鍵合等多個工序,高純氮氣內部混入的水汽,會成為影響晶圓良率的重要因素。管路接頭密封不嚴、供氣系統吸附材料性能衰減、管道內部殘留濕氣,都容易造成高純氮氣當中水分含量上升。水汽附著在晶圓表面,會造成表面氧化、微粒附著,引發晶圓表面缺陷,間接造成后續制程出現異常。企業除了做好供氣系統維護,還需要對氮氣吹掃管路開展常態化檢測,美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 可承擔現場氣體檢測任務,為半導體晶圓制造的氣體環境管控提供支撐。

美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 適配半導體行業高純氣路采樣條件,美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 可對接氮氣吹掃管路的預留采樣口,完成管路內氣體取樣分析。在半導體晶圓制造現場,氮氣會從氣源端輸送至各個工藝機臺,整條管線不同位置的氣體狀態會存在區別,氣源出口合格,不代表機臺末端的氮氣同樣滿足條件,管線長距離輸送過程中的滲漏,往往發生在管路中段或者靠近設備的末端點位。美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 支持在管線的多個節點開展取樣,工作人員可借助美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 依次檢測氣源端、管路中轉點位、機臺吹掃進氣端,梳理整條氮氣吹掃管路的露點分布情況,識別出管路中水分異常升高的位置。
半導體廠區內的高純氣體管路系統復雜,部分檢測點位空間緊湊,美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 的采樣回路可以匹配現場氣路接口,能夠適應晶圓車間潔凈廠房的使用環境。半導體車間當中除水分以外,管路中還會伴隨少量雜質氣體,這類組分不會直接干擾美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 的檢測過程,保障美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75 可以穩定反饋管路氣體的濕度情況。現場運維人員還可以使用美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM75,定期對車間已經安裝的在線監測設備做比對核驗,及時發現在線設備出現的讀數漂移,避免依靠失準的數據開展工藝調節。
氮氣吹掃管路的濕度監測屬于持續性工作,并非一次性檢測就可以完成管控。隨著設備長時間運行,密封件老化、濾芯損耗都會慢慢帶來水分侵入問題。依靠美國 Edgetech 冷鏡露點儀 PDM5 開展周期性巡檢,企業能夠掌握高純氮氣吹掃管路長期的濕度變化趨勢,提前發現供氣系統的潛在隱患,及時開展管路維護與配件更換,減少水汽以及雜質氣體對晶圓帶來的負面影響,維持半導體晶圓制造的生產穩定性,降低因為氣體環境異常帶來的產品損耗,適配不同規模半導體產線的日常氣體檢測工作