半導體超純水處理應用EDI超純水設備，滿足用水需求

半導體指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。半導體電子元器件在生產制造過程中會遇到不同程度的化學品污染及外界干擾，例如晶圓表面會遇到本可以避免的刻蝕，以及難以去除的化合物等。

EDI是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術，屬高科技綠色環保技術。EDI超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在電子半導體、電力等行業得到推廣。

EDI超純水設備在半導體行業中應用，可以去除水中的離子、微生物、有機物、顆粒等雜質，從而獲得高純度的水，滿足半導體芯片制造的要求。

萊特萊德EDI超純水設備是一種水處理設備，采用預處理、反滲透技術、EDI技術和后處理方法，去除水中的導電介質，去除非游離膠體物質，水中的氣體和有機物含量很低。萊特萊德超純水設備具有出水連續、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優點。出水水質符合半導體行業相關標準，為半導體用水保駕護航。

EDI膜塊不會產生酸堿廢液，因此不需要酸堿中和。EDI進水為反滲透產水，水質較好。經EDI系統及時濃縮后，EDI濃縮水水質仍優于一級反滲透產水。可連續工作，無需更換樹脂。自動化性能強，無需人工操作。此外，萊特萊德超純水設備還廣泛應用于醫藥、化工等行業。