軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機

軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機，軟膠囊內(nèi)容物膠體磨，膠囊膠體磨，改良型膠體磨，醫(yī)藥乳液膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨，此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，先研磨后分散，物料粒徑更細，更穩(wěn)定！
(同) 
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴密、用量精確、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明，口服制劑的生物利用度，以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，zui差為片劑。
          近年來，超微粉碎技術逐漸應用到軟膠囊領域，通過研究發(fā)現(xiàn)，藥材經(jīng)過超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質(zhì)度明顯改善，這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當中，質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對于膠囊的內(nèi)容物的處理，出現(xiàn)的大量的設備，如：膠體磨、均質(zhì)機、分散機等。這些設備通過對內(nèi)容物的剪切，從內(nèi)容物粒徑更加細化，粉末分散更加均勻。而上海依肯應對這種情況，研發(fā)出了的設備，改良性膠體磨，該膠體磨結合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點，將二者一體，形成的設備，我們也將它定義為“研磨分散機”。
              

軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機，IKN研磨分散機，對于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢，對于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效，無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液，都可以將物料充分的細化，提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭，IKN改良型膠體磨，研磨分散機，有一級膠體磨頭和一級分散盤，對物料先研磨后分散機，再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速，乳液粒徑一般可細化至1-2微米，混懸液一般可細化至3-5微米，當然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定，段。
 

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

          
CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

              
CMD2000系列的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。(同)