密閉制冷加熱循環(huán)裝置

ZTM密閉制冷加熱循環(huán)裝置向外部提供熱源或冷源，適用于制藥、化工、生物、新材料等行業(yè)，應用于反應釜的溫度控制、材料測試中的溫度控制、工藝過程中溫度變化模擬控制、半導體設備的溫度控制、新能源電池包熱測試平臺的溫度控制、真空室的溫度控制等。 

ZTM密閉制冷加熱循環(huán)裝置產品特點

l  密閉循環(huán)系統(tǒng)，導熱流體不易揮發(fā)和氧化、不易吸附空氣中水分導致變質，可延長導熱流體使用壽命；

l  液位顯示功能，可實時監(jiān)視液位；

l  獨立的超溫保護、制冷系統(tǒng)超高壓保護、漏電保護功能；

l  壓縮機延時啟動保護、熱過載保護、過電流保護、相序保護；

l  標配RS485數(shù)據(jù)接口、USB接口，便于客戶進行集中控制和數(shù)據(jù)導出；

l  7寸彩色液晶屏可以清晰顯示工作過程相關信息、物料溫度變化特性曲線；

l  加熱與制冷匹配合理，全程溫度穩(wěn)定性在±0.5℃，部分溫度段穩(wěn)定性在±0.1℃，恒溫精度高；

l  斜率升降溫控制，便于實現(xiàn)精確的工藝控制；

l  可根據(jù)實際反應情況和控制要求，選擇物料溫度、載熱體出口溫度或載熱體回口溫度作為控制對象；

l  溫差控制技術，減少外部設備溫度超限的發(fā)生；

l  可根據(jù)實驗需要，選擇定值控溫、程式定值控溫、定值斜率控溫和程式或者斜率控溫四種方式；