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半導體超純水設備

半導體超純水設備

半導體超純水設備是半導體行業制造出高質量產品的關鍵設備，主要用于清洗、蝕刻、摻雜等關鍵環節。超純水的純度要求ji高，甚至達到了ppb(十億分之一)級別。超純水的制備一般可分為前級處理、反滲透(RO)、電滲去離子(EDI)、微過濾(MF)紫外線殺菌、超凈過濾(UF)等階段。

1.半導體超純水設備的重要性

1.1 半導體超純水設備是半導體行業制造出高質量產品的關鍵設備。

1.2 在半導體制造過程中，超純水被用于清洗、蝕刻、摻雜等關鍵環節，其純度要求ji高，甚至達到了ppb(十億分之一)級別。

2.半導體超純水設備的制備工藝2.1 超純水的制備一般可分為前級處理、反滲透(RO)、電滲去離子(EDI)、微過濾(MF)、紫外線殺菌、超凈過濾(UF)等階段。

2.2 前級處理的作用是讓原水(一般指城市自來水或地下水等)在進入多層介質過濾器(純化膜組)之前，添加適量的化學試劑(例如次氯酸鈉)以氧化有機物，與高分子聚合物產生凝聚作用，降低原水中的渾濁度及污染指數。

3.半導體超純水設備的回收再利用3.1 在半導體材料或集成電路工廠的超純水系統中，采取水的回收再利用處理，可以降低生產運行成本。

3.2 一般要使水的回收率達到70%以

上。