PECVD系統,它由管式爐,石英真空室、真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。主要使用于:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能。該PECVD系統具有: 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。
RF射頻電源主要技術參數:
功率輸出范圍 | 0-500W |
**反射功率 | 200W |
工作頻率 | 射頻:13.56MHZ±0.005% |
功率穩定度 | +/-0.1% |
諧波分量 | ≤-50dbc |
射頻區域寬度 | 0-600mm 可調 |
匹配方式 | 自動 |
冷卻方式 | 分冷 |
噪聲 | <50dB |
射頻接口 | 50Ω N-type |
輸入電源 | 208-240V 50/60HZ |


















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