試劑中英文名稱:BY4741 Chemically Competent Cell 酵母菌化學(xué)感受態(tài)細(xì)胞
儲(chǔ)存:-20℃干燥避光保存至少1年,冰袋運(yùn)輸。
產(chǎn)地:陜西西安
溫度敏感性:菌株對(duì)高溫敏感
合適生長(zhǎng)溫度:27–30℃
純度:95%
一、背景描述:(BY4741 酵母菌化學(xué)感受態(tài)細(xì)胞)
Product Description
BY4741 strain is derived from the original strain of Saccharomyces cerevisiae, S288C, which is a commonly usedstrain in the laboratory and is a gamete MATa type, which is widely used Sodium and potassium ion balance; Cells resist salts: absorption of various metal ions: heavy metal toxicity: Various sugars, carbon sources for eukaryotic cell growth influence: Peroxide, superoxide absorption and transport in the study.
BY4741 Saccharomyces cerevisiae is a compound of histidine, leucine, methionine,Uracil-deficient strain that transforms pYES2 plasmids directly into BY4741 cells via PEG/LiAc.
Screening of plasmid pYES2 The flag is URA, which can be filtered using the SD-URA tablet.
BY4741 comDetent cells are speciallv pYES2 plasmid detection conversion efficiency > 10 cfu/Ug DNA.
BY4741 菌株來(lái)源于釀酒酵母原始菌株——S288C,是實(shí)驗(yàn)室的常用菌株,為配子MATa 型,廣泛應(yīng)用于鈉,鉀離子平衡;細(xì)胞抗鹽;各種金屬離子的吸收;重金屬毒性;各種糖類,碳源對(duì)真核生物細(xì)胞生長(zhǎng)的影響;過(guò)氧化物,超氧化物的吸收與運(yùn)輸?shù)难芯恐小?/span>
BY4741釀酒酵母為組an酸、亮an酸、甲硫an酸 、尿mi啶缺陷型菌株,可直接通過(guò) PEG/LiAc將pYES2質(zhì)粒轉(zhuǎn)化進(jìn)入BY4741細(xì)胞內(nèi)。
質(zhì)粒pYES2的篩選標(biāo)志為URA,可用SD-URA平板進(jìn)行篩選。
BY4741感受態(tài)細(xì)胞經(jīng)特殊工藝制作,-80℃可保存六個(gè)月,pYES2 質(zhì)粒檢測(cè)轉(zhuǎn)化效率>103 cfu/μg DNA。
應(yīng)用前景(BY4741 酵母菌化學(xué)感受態(tài)細(xì)胞)
(1)基因功能研究平臺(tái)
通過(guò)基因敲除(如YCF1基因突變株△ycf1)研究重金屬解毒機(jī)制。
用于啟動(dòng)子活性分析、信號(hào)通路驗(yàn)證等分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)。
(2)蛋白表達(dá)與互作分析
適用于酵母單雜交(Y1H)、雙雜交(Y2H)系統(tǒng),檢測(cè)蛋白-DNA或蛋白-蛋白相互作用。
可表達(dá)非毒性重組蛋白。
(3)工業(yè)與醫(yī)藥研發(fā)
研究酵母在脅迫環(huán)境(高鹽、重金屬)下的適應(yīng)性,為工業(yè)菌株改良提供依據(jù)。
探索糖代謝機(jī)制,助力生物燃料或食品工業(yè)開(kāi)發(fā)。
二、技術(shù)操作流程
核心步驟(綜合):
(1)預(yù)處理:
冰上融化感受態(tài)細(xì)胞(100μl),避免反復(fù)凍融。
載體DNA(Carrier DNA)需96℃變性3分鐘,冰浴驟冷,重復(fù)一次以消除二級(jí)結(jié)構(gòu)。
(2)轉(zhuǎn)化混合:
依次加入:1–3 μg目標(biāo)質(zhì)粒、10 μl變性載體DNA、500 μl PEG/LiAc溶液,輕柔混勻。
(3)溫育反應(yīng):
30℃水浴30分鐘(每15分鐘翻轉(zhuǎn)混勻)→ 42℃水浴15分鐘(每7.5分鐘翻轉(zhuǎn))。
(4)離心與涂板:
5000 rpm離心40秒,棄上清,用ddH?O重懸洗滌一次。
終重懸于50 μl ddH?O,涂布于SD-URA平板,29℃培養(yǎng)48–96小時(shí)。
(5)關(guān)鍵注意事項(xiàng):
溫度敏感:酵母在>30℃時(shí)生長(zhǎng)受抑制,操作需嚴(yán)格控制溫度。
培養(yǎng)基差異:不同營(yíng)養(yǎng)缺陷型培養(yǎng)基(如SD-LEU vs. SD-URA)中菌落生長(zhǎng)速度可能不同,需調(diào)整培養(yǎng)時(shí)間。
質(zhì)粒濃度:高純度質(zhì)粒可提升轉(zhuǎn)化效率,避免使用毒性基因。
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